The journal offers a common reference and publication source for workers engaged in research on the experimental and theoretical aspects of crystal growth and its applications, e.g. in devices. Experimental and theoretical contributions are published in the following fields: theory of nucleation and growth, molecular kinetics and transport phenomena, crystallization in viscous media such as polymers and glasses; crystal growth of metals, minerals, semiconductors, superconductors, magnetics, inorganic, organic and biological substances in bulk or as thin films; molecular beam epitaxy, chemical vapor deposition, growth of III-V and II-VI and other semiconductors; characterization of single crystals by physical and chemical methods; apparatus, instrumentation and techniques for crystal growth, and purification methods; multilayer heterostructures and their characterisation with an emphasis on crystal growth and epitaxial aspects of electronic materials. A special feature of the journal is the periodic inclusion of proceedings of symposia and conferences on relevant aspects of crystal growth.

该期刊为从事晶体生长实验和理论方面研究及其应用（例如在设备中）的工作者提供了通用的参考和出版资源。以下领域的实验和理论贡献均已发表：成核和生长理论、分子动力学和传输现象、聚合物和玻璃等粘性介质中的结晶；金属、矿物、半导体、超导体、磁性材料、无机、有机和生物物质的块体或薄膜晶体生长；分子束外延、化学气相沉积、III-V 和 II-VI 以及其他半导体的生长；通过物理和化学方法表征单晶；晶体生长的装置、仪器和技术以及净化方法；多层异质结构及其表征，重点是电子材料的晶体生长和外延方面。该期刊的一大特色是定期收录有关晶体生长相关方面的研讨会和会议论文集。

该刊已被国际权威数据库SCIE收录，该刊致力于发表经过严格同行评审的高质量原创文章，反映化学-晶体学领域的新进展、新技术、新成果，促进该领域科研交流和科研成果转化。该刊2023年影响因子为1.7，平均审稿速度为 约2.6个月 约10周，近四年来没有被列入预警名单。如果您需要投稿发表服务及指导，可以联系我们的客服老师，我们专业专注服务期刊投稿协助10年，为您提供期刊投稿个性化定制服务，并且我们确保严格保密您的个人信息及稿件内容。